从前文可以看出,光刻机的每个子系统都是复杂的系统工程,把各个子系统组装成可使用的整机是更为复杂的系统工程,尽管自上世纪90年代,我国科研团队就开始了光刻机相关研究,但受限于国外设备、技术的封锁,以及自身技术薄弱等原因,进展一直落后于国外。2008年,我国出台了《国家中长期科学和技术发展规划纲要(2006-2020)》,其中明确了16个科技重大专项,其中排名第二的就是“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”,因此也被业内称为“02专项”。光刻机项目作为“02专项”的核心项目之一由此开启,根据“02专项”的部署,上海微电子负责光刻机整体的系统设计和系统集成;中科院长春光学精密机械和物理研究所(简称长光所)牵头负责物镜系统的研发,中科院上海光学精密机械研究所(简称上光所)负责照明系统的研发,两者一起组成光刻机的曝光光学系统;清华大学牵头负责光刻机双工件台设计;浙江大学牵头负责研发光刻机浸液系统。产业化的进程中,各高校和科研院所也孵化了一批公司,本篇报告根据公开信息整理如下表所示。