Cat-CVD的Ta丝重复使用次数有限更换成本高
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行业深度报告 Cat-CVD 工艺沉积效果更佳，但设备运行成本还有待优化。由 Cat-CVD 工艺沉积的非晶硅/晶硅界面为 0.6nm，仅为 PECVD 的 1/3，对应的少子寿命也更长，钝化效果更好。这主要是由于 Cat-CVD 可更高效地分解 H2，从而产生更高密度的氢原子对硅表面的悬挂键进行钝化，最终实现减少载流子复合，更好提升电池效率。此外，Cat-CVD 对于源气体的利用率在 80%以上，而 PECVD 目前仅为 10%-20%，而且 Cat-CVD 理论上可在热丝两侧同时沉积，生产速度更快。Cat-CVD 关键部件是 Ta 丝，长时间使用会出现老化问题，热丝表面开裂使其电阻率和表面状态发生变化。因此，Ta丝需要定期更换，更换周期小于一个月，这增加了 Cat-CVD 设备的运行成本。未来
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