RF-PECVD与VHF-PECVD工艺对比
2024-09-25 08:15:59
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甚高频通信系统（VHF）和高频通讯系统（HF）示意
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PECVD用于硬掩模层的沉积（见灰色层）
2024-10-14 08:15:22
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竞争格局1
2023年拓荆科技PECVD市占率11.4%
2024-10-14 08:15:22
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竞争格局1
2019-2020拓荆科技PECVD国内市占率16.6%
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PECVD射频频率增加带来沉积速率增加的同时均匀性和透光率在变差
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行业数据1
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2024-09-25 08:15:59
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原图定位
行业数据1
制备微晶硅的难点在于速率和均匀性的解决，VHF+小腔体为关键
2024-09-25 08:15:59
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原图定位
其它1
PECVD为薄膜沉积中占比最高的设备类型
2024-07-11 08:16:15
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原图定位
其它1
图23.沉积工艺以LPCVD与PECVD为主
2024-02-20 08:15:50
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原图定位
其它1
2019-2020年拓荆在本土PECVD市占率约17%
2024-01-29 08:15:44
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市场规模1
2025年全球&中国大陆半导体薄膜沉积设备PECVD、PVD、ALD市场规模测算
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行业在沉积速率与均匀性&透光率之间倾向于选择前者，对应 VHF-PECVD。按射频频率，PECVD 可分为射频增强等离子体化学气相淀积（RF-PECVD）和甚高频等离子体化学气相淀积（VHF-PECVD），RF-PECVD 技术成熟，稳定性好，薄膜均匀，但沉积速率较慢。频率更高的 VHF-PECVD 具有高技术壁垒，沉积速率极快，能够大幅提升生产效率，但薄膜均匀性较差，且过快的沉积速度不利于对薄膜厚度的精准控制，导致透光率较低。行业在沉积速率与均匀性&透光率之间倾向于选择前者，VHF-PECVD 因此得到了更为广泛的应用。目前只有迈为股份和理想万里晖布局 VHF-PECVD 路线，其余厂商均使用主流的 RF-PECVD 以保证高均匀性与透光率。
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