表3.20 “极紫外光刻元件检测技术”工程开发前沿中核心专利的主要产出机构
2026-03-31 09:03:03
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当前在极紫外光学元件检测方面，全球已经形成以ASML、蔡司（Zeiss）、KLA为主导的 技术格局，美国、荷兰、日本等国已在多层膜计量、掩模缺陷检测、真空波前测量等关键环节建 立成熟的工业体系，在国际竞争中保持技术领先。相比之下，中国虽然在清华大学、中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所、中国科学院上海光学精密机械研究所等单位的带动下，在多层 证阶段，与国际先进水平存在明显差距，亟须在核心检测装备、关键传感器与高精度算法等领域 加大研发投入，加快突破瓶颈，健全检测标准体系与产业化链条，实现国产化与自主可控，保障 先进半导体制造的战略安全。 全球总公开量的68%。美国虽然在公开量上位居第六，但平均被引数高居第一，在高价值专利数 量上保持领先地位。日本专利公开量和平均被引数排名分别为第三和第二，凸显其技术质量与影 响力优势。新加坡虽然专利公开量排名第七，但平均被引数排名第三，也展现了较高的专利质量 制造技术有限公司、台湾积体电路制造股份有限公司（简称台积电）、ASML公司等国际龙头企
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