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光刻胶竞争格局

国海证券报告聚焦半导体材料“皇冠上的明珠”——光刻胶。据Techect预测,2024年全球半导体光刻胶市场规模25.7亿美元,2022-2027年CAGR为4.1%。中国大陆2023年光刻胶市场规模34.46亿元。日本JSR、东京应化、信越化学等垄断KrF和ArF中高端市场,国内尚无EUV光刻胶问世。彤程新材、鼎龙股份等正加速追赶,ArF光刻胶已实现零的突破。本报告解析光刻胶竞争格局与国产替代进展。

全球光刻胶市场25.7亿美元,中国大陆34.46亿元

光刻是半导体晶圆制造工艺的根基,光刻胶的分辨率、对比度、感光速度直接影响芯片性能、良品率和可靠性。全球半导体光刻胶市场从2022年稳步增长,Techect预测2024年达25.7亿美元,2022-2027年CAGR 4.1%。

中国大陆半导体光刻胶2023年市场规模34.46亿元(-13.98%),主要受行业去库存影响。随着国内12寸晶圆产线陆续开出,KrF和ArF光刻胶使用率预计将进一步上升。TrendBank预计未来将保持稳步上升态势。国内市场虽短期承压,但中长期增长确定性高。
表:国内外光刻胶企业技术水平及主要壁垒
企业技术水平主要技术壁垒
JSR/TOK/信越/住友KrF/ArF/EUV光刻胶技术引领全球市场份额主导
北京科华部分KrF光刻胶形成销售原材料设计/合成/纯化壁垒、配方设计开发壁垒、工程化及规模量产壁垒
南大光电部分ArF光刻胶形成销售
上海新阳部分KrF光刻胶形成销售,部分ArF已取得测试结果
彤程新材KrF形成销售,高分辨KrF/ArF在验证测试阶段
徐州博康部分KrF形成销售,部分ArF获得订单
鼎龙股份建成年产30吨KrF/ArF产线,已获晶圆厂订单

日本巨头垄断中高端市场,国内尚无EUV光刻胶

从细分品类看,国内厂商主要以低端g线/i线产品为主,毛利率相对较低。中高端KrF和ArF光刻胶市场被日本JSR、东京应化、信越化学、住友化学、富士胶片等巨头垄断。EUV光刻胶方面,国内尚无一家企业有产品问世,与国际差距最为悬殊。

光刻胶的核心技术壁垒包括:原材料设计/合成/纯化壁垒、配方设计开发壁垒、工程化及规模量产壁垒。光刻胶产品需经历长时间、高难度的研发,研发过程中需要大量投入,且上线前需长周期测试论证,上游线后也需通过较长周期逐步上量。

彤程新材ArF已形成销售,鼎龙股份获晶圆厂订单

2024年国内光刻胶国产化取得阶段性突破。彤程新材2024年上半年已导入多款高分辨KrF、ArF光刻胶(含干式和浸润式)和BARC底部抗反射涂层在客户端验证,并陆续通过认证,ArF光刻胶已开始形成销售。KrF光刻胶增长超60%,化学放大型i线光刻胶增长超500%。

鼎龙股份2024年公告拟募资发行可转债用于“年产300吨KrF/ArF光刻胶产业化项目”,已建成“年产30吨KrF/ArF光刻胶”产线有相关产品产出送样或测试,且已有部分产品完成中试,并于近期分别收到两家国内主流晶圆厂客户的订单,合计采购金额超百万元。这是国内光刻胶国产化的标志性进展。国内光刻胶厂商正由低端g线/i线向KrF/ArF升级,EUV光刻胶仍是空白。

光刻胶国产替代路径与投资逻辑

光刻胶国产化率不足10%,是半导体材料中替代空间最大的品类之一。从替代路径看:g线/i线已实现部分国产化→KrF正在加速突破→ArF处于验证导入阶段→EUV尚属空白。受益标的:彤程新材(KrF/ArF多款导入验证,ArF已形成销售)、鼎龙股份(年产30吨KrF/ArF产线投产)、南大光电(部分ArF形成销售)、上海新阳(部分ArF取得测试结果)。
点击阅读报告原文: 半导体材料行业深度:发展现状、竞争格局、国产替代、市场空间及相关公司深度梳理-241223(38页)
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