光刻机是芯片制造的核心设备，也是美国对华科技封锁的重点领域。山西证券研报显示，全球光刻机市场规模约315亿美元，ASML以82.1%市场份额垄断高端光刻机市场。美国持续加码半导体设备出口管制，光刻机国产化势在必行。光刻机产业链中光学模组是最核心环节，茂莱光学、福光股份、福晶科技等光学产业链公司有望率先受益于国产替代进程。
全球光刻机市场315亿美元，ASML垄断82.1%份额
光刻是芯片制造最关键的工艺，光刻机是核心设备。光刻工艺占芯片制造耗时长、成本高，将高能雷射光穿过光罩，通过聚光镜将电路图形缩小成像在预涂光阻层的晶圆上。光刻机按照光源波长从可见光到极紫外（EUV）持续演进，EUV 13.5nm支持7-3nm先进制程。
全球光刻机市场规模超300亿美元。SEMI数据显示全球半导体设备市场有望从2022年1074亿美元增长到2025年1275亿美元，光刻机占半导体设备比例约24%，预估2024年全球光刻机市场规模约315亿美元。出货量方面，KrF和i-Line占比较高（37.9%/33.6%），EUV仅占7.3%但价格远高于其他种类。
光刻机市场呈现寡头垄断格局，2022年ASML、Canon、Nikon市场份额分别为82.1%、10.2%和7.7%。ASML对中国大陆市场销售持续提升，2024前三季度达71亿欧元（占收入48.2%）。国内光刻机市场进口替代空间巨大。
光刻机技术演进与对应工艺| 技术阶段 | 光源 | 波长 | 对应工艺 |
|---|
| 第一代 | g-line | 436nm | 800-250nm |
| 第二代 | i-line | 365nm | 800-250nm |
| 第三代（DUV） | KrF/ArF/ArFi | 248/193nm | 180-7nm |
| 第五代（EUV） | EUV | 13.5nm | 7-3nm |
美国持续加码出口管制，光刻机国产化势在必行
美国持续加大对半导体设备出口管制力度。2019年游说荷兰阻止ASML向中芯国际出口EUV；2020年将中芯国际加入实体清单限制10nm以下设备采购；2022年游说荷兰禁止向中国出口DUV光刻机；2023年荷兰政府出台半导体设备出口管制，主要针对ASML最先进的浸没式光刻机；2024年1月ASML NXT:2050i和NXT:2100i光刻机发货许可证被荷兰政府吊销。
随着美国持续加码制裁，光刻机国产化成为半导体自主可控的关键环节。光刻机整机主要分为照明光学模组、投影物镜模组、晶圆平台模组三大模组。照明光学模组包括光源和照明模组；投影物镜模组包含多种反射镜和透镜，将掩模版电路图案缩小1/16后聚焦成像；晶圆平台模组包括工件台、掩模台、调平调焦、对准等系统。
光学产业链率先受益，茂莱光学/福光股份/福晶科技布局
光刻机国产化进程中，光学产业链有望率先受益。茂莱光学（2025E PE 153.9x）为国内光刻机光学系统核心供应商，提供照明光学模组和投影物镜模组相关光学器件；福光股份（103.5x）从事特种及民用光学镜头、光电系统；福晶科技（54.0x）提供非线性光学晶体、激光晶体等光刻机关键光学材料；汇成真空（59.5x）布局光学镀膜设备。
自主可控方向建议关注光刻机产业链核心标的：茂莱光学、福光股份、汇成真空、福晶科技。随着光刻机国产化进程加速推进，光学产业链公司有望迎来持续增长机遇。
