三种技术路径：平面反式、平面正式、介观印刷结构
2022-09-19 07:01:40
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目前常用器件结构分为平面结构和介观印刷结构，平面结构中又根据器件电荷传递方向的不同（电子传输层和空穴传输层进行调换）分为正式和反式，产业化进程中使用平面结构的企业较多。介观印刷结构的特点是在导电基底上通过逐层印刷方式涂覆 3 层介孔膜，制备可印刷的介观钙钛矿电池。平面正型结构的钙钛矿电池器件主要由底电极／电子传输层／钙钛矿层／空穴传输层／顶电极组成。目前，万度光能、南大昆山研究院在做介观印刷的技术路线，在导电体上面，进行不同的介孔层的印刷，然后在上面再印刷一层碳电极。目前，在 900cm2面积实现 9%的效率，在 60 cm2 实现 12.87%效率。协鑫光电、极电光能、纤纳光电等企业选用平面结构路径。目前钙钛矿电池生产企业中选用平面式结构较多，正式与反式均有涉及。
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