另外,背面供电工艺将电源线移动到芯片“背面”的方法,使芯片“正面”专注于互连,英特尔背面供电方案 IR 降低了 30%,每个核心单元的性能提高了 6%。随着芯片性能要求越来越高,晶体管越来越小,所需提供电流的互连越来越紧密,线路和过孔的进一步拓展也将导致更高的电阻和布线拥塞。英特尔“背面供电”方案将电源线移动到芯片“背面”,从而使芯片“正面”专注于互连。当能量流过电线时,电阻会随着电线变得越来越小而增加。英特尔 PowerVia 方案 IR 降低了 30%,而每个核心单元的电能利用率提高了 6%。