不同大面积钙钛矿薄膜制备方法的优缺点与厂商布局
2023-02-16 08:05:12
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光芯片相关企业一般采取FablesS、Foundry以及IDM三大类模式，不同模式各有优缺点，IDM模式更为主流
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气相沉积法：通过真空蒸镀即可沉积钙钛矿（前驱体）薄膜的方法，但真空气相沉积需要使用价格昂贵的真空设备，较高的生产成本限制了其在大面积钙钛矿薄膜制备中的广泛应用，但由于不使用分子泵等高真空设备，成本低于常见的物理气相沉积法。
行业数据
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